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用适当频率的方脉冲照射到某n型半导体样品上 被样品内部均匀吸收并产生非平衡载流子 其产生率为gp 非平衡空
用适当频率的方脉冲照射到某n型半导体样品上,被样品内部均匀吸收并产生非平衡载流子,其产生率为g
p
,非平衡空穴的寿命为τ
p
,光脉冲宽度△t=3τ
p
。
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