制造霍尔元件的半导体材料中 目前用的较多的是锗 锑化铟 砷化铟 其原因是这些()。

制造霍尔元件的半导体材料中，目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟，其原因是这些()。

A、半导体材料的霍尔常数比金属的大

B、半导体中电子迁移率比空穴高

C、半导体材料的电子迁移率比较大

D、N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件

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