关于集成电路布图设计权 下列表述正确的有（) A．受保护的布图设计应当具有独创性 B．受保护的布图

关于集成电路布图设计权，下列表述正确的有(  )

  A．受保护的布图设计应当具有独创性

  B．受保护的布图设计应当具有实用性

  C．在我国，布图设计专有权需经国家知识产权局登记产生

  D．布图设计专有权的保护期为10年，一律自布图设计登记申请之日起计算